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nanoArch S140 是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
nanoArch S140 是科研级 3D 打印系统,拥有 10μm 的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,可以兼顾微尺度和宏观样件的打印,从而实现超高精度大幅面的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:光敏树脂
光学精度:10μm
打印层厚:10~40μm
打印样品尺寸:
模式 1:19.2mm(L) × 10.8mm(W) × 45mm(H) (单投影模式)
模式 2:94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H) (拼接模式)
模式 3:94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H) (重复阵列模式)
打印文件格式:STL
系统外形尺寸:1000mm(L) × 700mm(W) × 1600mm(H)
主机外形尺寸:600mm(L) × 580mm(W) × 750mm(H)
重量:300kg
电气要求:200~240V AC, 50/60HZ, 3KW
通用型:
高精度硬性光敏树脂。
个性化:
405 nm 固化波段的光敏树脂材料,支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶等,需适配不同的工艺和模型 (不保证打印性能)。