目前位置：微纳 3D 打印系统 > nanoArch® S140
nanoArch® S140
nanoArch® S140 系统简介
nanoArch S140 是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
科研级 3D 打印系统
nanoArch S140 是科研级 3D 打印系统，拥有 10μm 的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，可以兼顾微尺度和宏观样件的打印，从而实现超高精度大幅面的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
nanoArch® S140 系统性能
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：光敏树脂
光学精度：10μm
打印层厚：10~40μm
打印样品尺寸：
模式 1：19.2mm(L) × 10.8mm(W) × 45mm(H) (单投影模式)
模式 2：94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H) (拼接模式)
模式 3：94mm(L) × 52mm(W) × 45mm(H) (重复阵列模式)
打印文件格式：STL
系统外形尺寸：1000mm(L) × 700mm(W) × 1600mm(H)
主机外形尺寸：600mm(L) × 580mm(W) × 750mm(H)
重量：300kg
电气要求：200~240V AC, 50/60HZ, 3KW
打印材料
通用型：
高精度硬性光敏树脂。
个性化：
405 nm 固化波段的光敏树脂材料，支持韧性树脂、PEGDA、耐高温树脂、生物医用树脂、柔性树脂、水凝胶等，需适配不同的工艺和模型 (不保证打印性能)。
